आवश्यकताओं सहित: यह सीमा के रूप में अधिकतम भौतिक आकार के साथ पोर्टेबल चुंबकीय कण परीक्षण मशीन द्वारा नियंत्रित परीक्षण तत्व के वास्तविक आकार और आकार त्रुटि का एक व्यापक परिणाम है, अर्थात, बाहरी कार्रवाई आकार अधिकतम भौतिक आकार से अधिक नहीं है।
अधिकतम सामग्री आवश्यकताः आयामी सहिष्णुता मान दिया गया सहिष्णुता मान है जब मापा तत्व अधिकतम सामग्री की स्थिति में है, अधिकतम सामग्री की वास्तविक प्रभाव सीमा द्वारा नियंत्रित (mv द्वारा दर्शाया गया)
घटकों के आकार, आकार और स्थिति त्रुटियों के व्यापक परिणाम, साथ ही वास्तविक आकार, सीमा आकार से अधिक नहीं होना चाहिए। जब परीक्षण की गई इकाई का वास्तविक समोच्च सबसे बड़ी इकाई की वास्तविक सीमा से अधिक नहीं होता है, तो आकार की अनुमति दी जाती है
स्थिति त्रुटि मान आकार सहिष्णुता मान से अधिक है, जो आकार सहिष्णुता को आकार और स्थिति सहिष्णुता की भरपाई करने की अनुमति देता है।
अधिकतम प्रभावी तीन आयामी आकार के लिए गणना सूत्र इस प्रकार हैः
अक्ष: V = Dmax + m के साथ ज्यामितीय सामान्य
छेद: DMV = dmin-m के साथ ज्यामितीय सहिष्णुता
न्यूनतम भौतिक आवश्यकताः सर्वोत्तम तकनीकी और आर्थिक लाभ प्राप्त करने के लिए उत्पाद डिजाइन के आधार पर।
चिह्नित ज्यामितीय सहिष्णुता मान तब दिया गया सहिष्णुता मान है जब मापा इकाई न्यूनतम सामग्री अवस्था में होती है। न्यूनतम इकाई वास्तविक प्रभाव सीमा (lv द्वारा प्रतिनिधित्व) का उपयोग करके मापा इकाई के आकार और ज्यामितीय त्रुटि को नियंत्रित करने के व्यापक परिणाम
वास्तविक आकार सीमा आकार से अधिक नहीं होना चाहिए। जब परीक्षण इकाई का वास्तविक समोच्च नमक स्प्रे परीक्षण मशीन के न्यूनतम भौतिक आकार से विचलित होता है, तो स्वीकार्य आकार और स्थिति त्रुटि मूल्य चिह्नित आकार और स्थिति सहिष्णुता मूल्य से अधिक होता है, अर्थात, सहिष्णुता मुआवजा रूप और स्वीकार्य आकार सहिष्णुता का स्थान सामान्य है।
एक ठोस के न्यूनतम प्रभावी आकार की गणना के लिए सूत्र इस प्रकार हैः
अक्ष: DLV = dmin-m के साथ ज्यामितीय सहिष्णुता
छेद: LV = Dmax + ज्यामितीय सहिष्णुता m
अधिकतम और न्यूनतम भौतिक आवश्यकताओं पर प्रतिवर्ती आवश्यकता को लागू करनाः वास्तविक भौतिक आयामों का उपयोग करके मापा इकाई आकार, आकार और स्थिति त्रुटियों के व्यापक परिणामों को नियंत्रित करना।
जब मापा सुविधा का समोच्च अधिकतम भौतिक प्रभाव सीमा से अधिक नहीं होता है, तो मापा सुविधा के आयामी सहिष्णुता को इसके ज्यामितीय सहिष्णुता मूल्य की भरपाई करने की अनुमति दी जाती है। उसी समय, जब मापा ज्यामितीय सहिष्णुता मूल्य चिह्न से कम होता है
मूल्य, वास्तविक आकार को अपने भौतिक आकार से अधिक होने की अनुमति दी जाती है।
ऑप्टिकल डिटेक्शन ऑप्टिकल लेंस का उपयोग किसी वस्तु की छवि का विस्तार करने और इसकी विशेषताओं का सटीक मूल्यांकन करने के लिए किया जाता है। ऑप्टिकल माप उत्पादन और विनिर्माण प्रक्रिया में गुणवत्ता नियंत्रण का एक महत्वपूर्ण पहलू है। इसमें ऑपरेटर अवलोकन के माध्यम से तेजी से और व्यक्तिपरक पहचान, साथ ही मापने वाले उपकरणों के माध्यम से स्वचालित मात्रात्मक पहचान शामिल है। ऑप्टिकल माप ऑफलाइन किया जा सकता है, अर्थात, वर्कपीस को उत्पादन लाइन से हटा दिया जाता है और माप के लिए परीक्षण मंच पर भेजा जाता है; इसे ऑनलाइन भी किया जा सकता है, जिसका अर्थ है कि वर्कपीस को उत्पादन लाइन छोड़ने की आवश्यकता नहीं है; इसके अलावा, वर्कपीस को उत्पादन लाइन के बगल में भी परीक्षण किया जा सकता है और पूरा होने के बाद जल्दी से उत्पादन लाइन पर वापस आ सकता है।
ये सभी ऑप्टिकल मापने वाले उपकरण कैमरे के समान तरीके से छवियों को आवर्धित करते हैं। गैन्ट्री छवि मापने वाले उपकरण में एकल लेंस आवर्धक ग्लास का निश्चित आवर्धन इसके आवेदन सीमा को सीमित करता है। उदाहरण के लिए, महत्वपूर्ण वर्कपीस विवरणों का पता लगाना मुश्किल है जिन्हें और विस्तार की आवश्यकता होती है। यदि माप प्रणाली आवर्धन को बढ़ाती है, तो इसके आवेदन की सीमा का विस्तार किया जाएगा। इसे प्राप्त करने के लिए, आमतौर पर तीन तरीके होते हैं- लेंस परिवर्तन, लेंस टर्नटेबल और जूम लेंस।
एक और समाधान जो प्रवर्धन रूपांतरण की आवश्यकताओं को पूरा करता है, एक जूम लेंस का उपयोग करना है, जो वीडियो माप प्रणालियों में आमतौर पर उपयोग की जाने वाली विधि है। एक ज़ूम लेंस का उपयोग करके, ऑपरेटर कम आवर्धन पर दृश्य का क्षेत्र देख सकता है, और फिर लेंस को बदलने और लेंस टर्नटेबल को घूमने की परेशानी को बचाने के लिए विवरण देखने के लिए आवश्यक होने पर लेंस को करीब खींच सकता है।
इन माप प्रणालियों में ऑप्टिकल प्रदर्शन के लिए समान आवश्यकताएं होती हैं, क्योंकि ऑप्टिकल प्रदर्शन सिस्टम दक्षता और छवि गुणवत्ता को प्रभावित कर सकता है। सर्वोत्तम पहचान परिणाम प्राप्त करने के लिए, इन उपकरणों में ऑप्टिकल सिस्टम को विकृत नहीं, और स्पष्ट उच्च विपरीत छवियों का उत्पादन करने में सक्षम होने के बजाय एक बड़ा कार्यस्थान प्रदान करने की आवश्यकता होती है।
